智慧財產權新修订法律法规全国巡回宣贯首站活动在西安启动

知典觀點

中國國家智慧財產權局於2026年8月25日在西安啟動法規巡迴宣導，許多企業主常誤以為這只是形式上的政令宣導。然而，這場由該局副局長芮文彪親自出席的活動，背後揭示的是大陸智慧財產權規則的實質改變。 本次宣導聚焦今年陸續完成修訂的《商標法》、《積體電路布圖設計保護條例》與《專利優先審查管理辦法》。這些法規的修訂將直接影響企業在大陸的商標布局難度，以及專利審查的通關速度。 若企業在大陸並無實體營運或商標專利申請需求，這波變動對您並無影響。但對於在陸設有研發中心的企業，專利優先審查新制將決定產品卡位時效，知典的專利布局健檢服務能協助評估兩岸布局的對接度。 筆者建議採取兩項行動。第一，法務應檢視在大陸進行中的專利申請，評估是否能利用新辦法縮短審查時程。第二，研發主管需重新確認積體電路布圖設計條例修訂後對晶片技術保護的實質影響。 法規宣導的啟動往往是執法趨嚴的訊號，提早對照新舊法差異方能降低營運風險。