智慧財產權新修订法律法规全国巡回宣贯活动在渝收官

知典觀點

中國官方完成法規宣導，不代表執法尺度驟變，企業毋須將宣傳活動誤讀為立即性的裁罰風暴。 中國國家智慧財產權局於 2026 年 10 月 28 日宣布，針對《商標法》、《專利優先審查管理辦法》與《積體電路布圖設計保護條例》的巡迴宣導在重慶收官。這顯示中國官方正推進新版法規在西南區域的落地執行。 若企業未在當地設廠或進行專利申請，這項宣導對營運影響微乎其微。但若產品涉及半導體晶片布局或擬申請專利優先審查，新規將直接影響審查時程與保護範圍，知典可協助企業進行專利布局健檢以釐清衝擊。 具體行動可分為兩點：第一，檢視在中國處理中的專利，確認是否符合新版優先審查條件；第二，涉及積體電路布圖之產品，應比對最新登記規範以降低補件風險。 面對跨國法規更新，重點在於精確對應市場需求，而非對宣導活動產生過度恐慌。