国家智慧財產權局在沪举办智慧財產權新修订法律法规规章全国巡回宣贯

知典觀點

中國國家智慧財產權局於2026年9月23日前後在上海舉辦新修訂法律法規巡迴宣貫活動，許多企業主常誤以為這類官方政令宣導只是形式主義的例行公事。筆者認為，這次活動釋出的修法訊號，實際上是中國大陸智慧財產權審查規則的一次實質轉向。 本次宣貫重點涵蓋《中華人民共和國商標法》與《專利優先審查管理辦法》等核心法規的修訂。這就像體育競技中裁判重新調整了比賽規則，特別是在擴大專利優先審查領域與壓縮核心專利授權週期方面，將直接改變企業在當地申請專利的速度競爭。 對於在中國大陸設有研發中心或規劃申請積體電路布局的半導體業者，必須重新檢視專利申請策略以爭取優先審查。如果您的企業主要市場在臺灣，且短期內無意布局中國大陸，這波修法對您幾乎沒有影響。知典提供專利佈局健檢服務，能協助有需求的企業評估是否適用新的優先審查通道。 針對此次法規變動，企業可採取以下兩項行動。第一，評估現有核心技術是否符合新版專利優先審查的擴大領域，以縮短授權時程。第二，重新檢視在中國大陸的商標註冊現況，防範因商標法新修訂而產生的撤銷風險。 法規修訂往往伴隨審查實務的寬嚴調整，密切關注配套制度的立法調研進展，才能在申請實務中掌握先機。